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IONTOF 低能离子散射谱LEIS Qtac
;2、可用于单原子层沉积过程和生长动力学研究;3、可用于分析粗糙表面和绝缘材料分析;4、可用于于材料催化性能研究;5、可用于生物材料、半导体材料等性能研究Q-tac 应用实例Qtac 系统实物
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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THEIA超快平面原子层沉积系统
THEIA 是一款高性能,稳定,灵活,可靠且安全的研发型原子层沉积系统,兼具工业生产解决方案的优势。THEIA 可进行升级改造,从而满足科学研究的各种需求,并实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。
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三维原子层沉积系统 ALD
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PROMETHEUS 流化床原子层沉积系统
P 系列是 Forge Nano 专为粉末 ALD 开发的研发级工具,可轻松实现 kg 的粉末包覆。使用流化床技术可保证粉末在反应器中的分散,有利于前驱体扩散。
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PANDORA 多功能台式原子层沉积系统
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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PICOSUN原子层沉积设备ALD
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原子层沉积系统
仪器简介:全球zei专业的原子层沉积系统ALD制造商,十多年来一直致力于ALD核心技术的研发,迄今拥有数十项注册专利在ALD的设计和薄膜制备工艺方面,并长期与全球著名的高校、研究
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AXIMA Confidence科学研究级MALDI-TOF质谱
AXIMA ConfidenceTM作为岛津功能全面的科学研究级MALDI-TOF仪器,性价比高,是经费受限制的大学、科研单位用户的首选机型。
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